AIXTRON SE a annoncé qu'AIXTRON Ltd, une filiale d'AIXTRON SE, livrera à l'Université d'État de Boise un système de dépôt de sa gamme de produits CCS® MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) pour les matériaux semi-conducteurs composés. Le CCS® 3x2 est un élément essentiel d'une extension de l'infrastructure accordée à l'Université d'État de Boise. Le CCS 3x2 d'AIXTRON livré à Boise a une capacité de 3x2” ; wafers.

Le système aura une température de fonctionnement maximale de 1400 C qui permettra de déposer du graphène et du hBN sur du saphir ainsi que de nouvelles structures pour les LED UV à base de GaN. Équipé d'une grande variété de canaux métallo-organiques et de gaz, le système permettra à la Boise State University de déposer les matériaux 2D les plus avancés. En outre, le système comprend les technologies de métrologie in situ ARGUS et EPISON, propriété d'AIXTRON, qui ont fait leurs preuves en tant qu'outils clés pour la croissance uniforme et répétable de matériaux 2D à l'échelle de la tranche. Avec l'aide du CCS 3x2, Boise State vise à permettre la fabrication moderne d'électronique hybride flexible avancée utilisant des hétérostructures 2D-3D.

L'objectif est d'utiliser le système AIXTRON pour rechercher et surmonter les défis de la synthèse à grande échelle et de l'intégration des matériaux 2D dans les flux de processus complets des dispositifs semi-conducteurs. L'outil AIXTRON CCS 3x2 devrait être le seul système d'une université américaine dédié et configuré pour la croissance de semi-conducteurs composés à l'échelle de la plaquette en 2D et à base de nitrure. Il préparera la future main-d'œuvre des semi-conducteurs aux niveaux du premier et du deuxième cycle pour l'industrie des semi-conducteurs basée aux États-Unis.

En étroite collaboration avec AIXTRON, l'équipe de recherche de Boise State tirera parti des propriétés uniques des matériaux, des algorithmes d'intelligence artificielle et des techniques de microfabrication révolutionnaires pour créer de nouvelles technologies qui seront à la base des applications futures.