Japan Display Inc. et Idemitsu Kosan Co. Ltd. ont réussi à co-développer un semi-conducteur d'oxyde polycristallin innovant, Poly-OS, destiné à être utilisé dans une grande variété d'écrans, y compris les dispositifs portables, les smartphones, les dispositifs métavers tels que la RV, les ordinateurs portables et les téléviseurs à grand écran. En intégrant le matériau semi-conducteur d'oxyde polycristallin propriétaire nouvellement développé par Idemitsu Kosan et la technologie de fond de panier2 propriétaire de JDI, le nouveau semi-conducteur Poly-OS contribue de manière significative à l'amélioration des performances d'affichage en atteignant à la fois une mobilité élevée et un faible courant de fuite3 sur les lignes de production de masse Gen 6.

Poly-OS peut également être déployé sur les lignes de production de masse Gen 8 et plus, réduisant ainsi considérablement les coûts de fabrication des écrans. JDI et Idemitsu Kosan s'engagent tous deux à promouvoir activement cette technologie innovante au niveau mondial. Idemitsu Kosan a commencé le développement d'un matériau semi-conducteur d'oxyde polycristallin IGO (Indium Gallium Oxide) pour les écrans plats dans le cadre de son activité de matériaux électroniques en 2006.

L'IGO présente une mobilité élevée équivalente à celle du polysilicium à basse température (LTPS)4, qui ne pouvait être atteinte avec les semi-conducteurs d'oxyde existants, ainsi que des caractéristiques stables de transistor à couche mince (TFT)5 qui peuvent être appliquées aux lignes de substrats Gen 8 et plus. JDI et Idemitsu Kosan soutiennent tous deux le développement continu de la technologie Poly-OS afin qu'elle puisse être largement utilisée dans diverses applications de l'industrie mondiale des écrans. JDI et Idemitsu Kosan s'engagent à contribuer à une société à faible émission de carbone grâce à l'amélioration des performances des écrans, à l'évolution de l'industrie mondiale des écrans et à la réduction de la consommation d'énergie des écrans.