Lam Research Corp. a présenté le premier outil de dépôt par laser pulsé (PLD) orienté vers la production au monde pour permettre les microphones et les filtres de radiofréquence (RF) basés sur les MEMS de la prochaine génération. Le système PLD Pulsus ?

PLD de Lam produit des films de nitrure de scandium d'aluminium (AlScN) avec la plus haute teneur en scandium disponible. Cela ouvre la voie à des appareils grand public et automobiles avancés avec des performances, des capacités et des fonctionnalités améliorées. Pulsus est désormais livré à certains fabricants d'appareils spécialisés.

L'ajout de Pulsus PLD au portefeuille Lam élargit encore la gamme complète de produits de dépôt, de gravure et de nettoyage à couche unique de Lam, axée sur les technologies spécialisées, et démontre l'innovation continue de Lam dans ce secteur. Des films de pointe pour des appareils à haute performance : Les filtres RF jouent un rôle essentiel dans les performances des réseaux 5G, WiFi 6 et WiFi 6E en augmentant le nombre de bandes qu'un réseau peut gérer tout en améliorant l'expérience de chaque utilisateur. Les microphones MEMS sont appréciés pour leur rapport signal/bruit élevé qui leur permet de capturer avec précision même les sons étouffés, ce qui est essentiel pour les fonctions de contrôle vocal et d'annulation du bruit dans les appareils compatibles avec la 5G.

Pulsus utilise une technologie de pointe pour déposer des films de haute qualité qui optimisent les filtres RF et les microphones MEMS. Plus le niveau de scandium est élevé dans le film, meilleures sont les performances des appareils. Pulsus fournit des films composés d'au moins 40 % de scandium, soit la concentration la plus élevée actuellement disponible.

Ces films présentent une faible perte diélectrique et un coefficient piézoélectrique deux fois plus élevé que les films spittés actuels, ce qui optimise la conversion électrique pour améliorer la sensibilité des filtres RF et les performances des microphones MEMS. En outre, les qualités piézoélectriques améliorées permettent de remplacer le titanate de zirconate de plomb (PZT) par de l'AlScN sans plomb. Dans le processus PLD de Pulsus, une impulsion laser intense est utilisée pour frapper un matériau cible.

La cible est vaporisée, créant un panache de plasma stable et dense qui est déposé en fines couches sur une plaquette. Ce processus est essentiel pour obtenir des films uniformes de haute qualité avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la tension. Avec Pulsus, c'est la première fois que des lasers sont utilisés pour le dépôt de couches minces dans le cadre d'une fabrication en grande série.

Les capacités PLD de Pulsus, soutenues par la conception de la plate-forme 2300 de Lam, garantissent une uniformité et une qualité de film exceptionnelles à une fraction du coût par plaquette par rapport aux méthodes de dépôt conventionnelles. Cette efficacité peut aider les fabricants de puces à augmenter les rendements de fabrication et à accélérer la mise au point de leurs produits. Outre l'AlScN, Pulsus peut déposer une large gamme de matériaux complexes à éléments multiples qui ne peuvent être appliqués par d'autres méthodes.

Lam explore de nouveaux matériaux pour répondre aux demandes du marché des technologies spécialisées pour des applications telles que l'AR/VR et l'informatique quantique.