Lasertec Corporation annonce qu'elle a développé avec succès une source lumineuse plasma EUV à haute luminosité nommée URASHIMA et qu'elle utilisera cette source lumineuse sur ses produits. Lasertec a lancé le premier système d'inspection de masques actiniques EUV au monde, ACTIS A150, en 2019. L'A150 a été adopté par les ateliers de fabrication de masques et les wafer fabs du monde entier et reconnu comme un outil indispensable à la fabrication et à la qualification des masques EUV pour la production de semi-conducteurs à la pointe de la technologie.

URASHIMA sera fourni avec les systèmes d'inspection actinique EUV de la série ACTIS afin d'améliorer encore les performances. URASHIMA est une source de lumière à plasma produit par laser (LPP) qui produit de la lumière EUV en envoyant des impulsions laser sur de l'étain liquéfié tournant à grande vitesse. Sa conception est optimisée pour l'optique ACTIS afin de minimiser la charge thermique et d'éviter d'endommager les pellicules, ainsi que pour obtenir une grande luminosité lors de l'inspection des masques à travers les pellicules.

L'un des principaux défis d'une source lumineuse EUV à base d'étain est la réduction des débris. URASHIMA est une source lumineuse sans débris qui utilise un système de réduction des débris propre à Lasertec pour éviter la contamination du masque. Elle permet également d'éviter la contamination des optiques d'illumination et d'obtenir une meilleure productivité.

Lasertec se consacre au développement de solutions uniques et contribue à l'amélioration de la qualité et de la productivité de la lithographie EUV.